Mittels Elektronenstrahlverdampfer lassen sich durch ihre hohe Energiedichte eine große Anzahl verschiedenster Materialien verdampfen. Zu den Materialien können neben nieder- und hochschmelzende Metalle auch Keramiken und Metalloxide gehören. Durch den Einsatz einer Load Lock – Kammer in Verbindung mit einem leistungsfähigen Turbo- oder Kryopumpensatz garantieren wir sehr gute Vakuumbedingungen.
Unsere Anlagen verfügen neben einer Strahlungsheizung und einer Plasmavorbehandlung über einen Mehrtiegel–Elektronenstrahlverdampfer. Durch Verwendung von Korrekturblenden sind Schichtdickenhomogenitäten von unter 1 % auch bei größeren Substraten realisierbar. Eine Kombination mit anderen PVD-Prozessen (z.B. Sputtern, Ionenstrahl) ist möglich.